Стандарты по высокоточному оцениванию параметров объектов нужны дистанционных исследованиях при анализе космических изображений и в литографическом оборудовании для производства памяти и процессоров. Для этого в Математическом Обеспечении Измерительно Вычислительных Систем (МО ИВС) предлагаем использовать высокоточные методы Градиентной Морфологии (ГМ).
Пока мы можем утверждать, что методами (ГМ) такие параметры как положение и размеры, например, Интегрального Транзистора мы можем оценить в 5-10 раз более точно, чем методами обычной морфологии. В настоящее время в конструировании оптических ИВС современных литографов имеет место простая тенденция: “Чем меньше длины волны излучения, тем более мелкие объекты мы видим, измеряем”. В подходах этой тенденции не учитывается тот факт, что излучение имеет волновую природу и надо математически компенсировать (термины:) Диаграмму Направленности (ДН), Функцию Рассеяния Точки (ФРТ) или Аппаратную Функцию (АФ) ИВС. Замети, что литографы с Рентгеновским ИВС уже существуют за рубежом. В России работы по рентгеновскому литографу продолжаются в Нижнем Новгороде. Рентгеновские ИВС очень дорогие и сейчас тенденция направлена даже на использование синхротронного излучения в литографии. На физическом факультете МГУ создан метод по компенсации АФ искажений ИВС, который мы назвали Математический Микроскоп (ММ). Метод ММ апробирован на данных в Астрономии и на данных с Электронных и Атомно-Силовых микроскопов. Величины получаемых сверх разрешений SR в зависимости от точности исходных данных для ММ находятся в пределах от 30-50 до 200-2000.
Выводы: метод ММ пока не применялся для получения SR изображений в дистанционных исследованиях с ИВС в литографии. Будущие за новыми ИВС в 0.2-1нм Литографии с методами ГМ и ММ.